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सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन के सक्शन नोजल के कार्य सिद्धांत और सफाई विधियों का सारांश

2025-09-07
Latest company news about सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन के सक्शन नोजल के कार्य सिद्धांत और सफाई विधियों का सारांश

सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन के सक्शन नोजल के कार्य सिद्धांत और सफाई विधियों का सारांश

एसएमटी प्लेसमेंट मशीन का सक्शन नोजल घटकों में से एक है और एक बहुत ही महत्वपूर्ण हिस्सा भी है। जब प्लेसमेंट मशीन उच्च गति से चल रही होती है, तो सक्शन नोजल भी तेजी से प्लेसमेंट करता है। तो, सक्शन नोजल का कार्य सिद्धांत क्या है? और सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन के सक्शन नोजल को कैसे साफ करें? मुझे आपको एक संक्षिप्त परिचय देने दें

सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन का सक्शन नोजल न केवल मशीन के लिए घटकों पर प्लेसमेंट और प्लेसमेंट क्रियाएं करने के लिए एक प्रमुख घटक है, बल्कि ऑप्टिकल विजन सिस्टम के कैमरे के लिए तस्वीरें लेने के लिए पृष्ठभूमि के रूप में भी काम करता है। यह मुख्य रूप से घटकों को चूसने के लिए वैक्यूम के सोखने के प्रभाव का उपयोग करता है, और सर्किट बोर्ड पर समन्वय स्थितियों पर सक्शन नोजल पर सोखने वाले घटकों को रखने के लिए हवा के झोंके का उपयोग करता है।

वास्तव में, एक छोटा सा सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन नोजल पूरी तरह से सुसज्जित है। इसमें तीन प्रमुख भाग होते हैं: नोजल हेड, फिल्टर स्क्रीन और सीलिंग रिंग। इसका मुख्य कार्य घटकों को माउंट करना है। जब हमारा माउंट नोजल काम करना शुरू कर देता है, तो यह हवा निकालने के लिए अपनी लचीलापन का लाभ उठाएगा, सभी गैस को हटाकर एक वैक्यूम प्रभाव प्राप्त करेगा। फिर महत्वपूर्ण घटकों को सोखें।

फिर, जब हम माउंटिंग प्रक्रिया करना चाहते हैं, तो हम पीसीबी बोर्ड पर एक उच्च दबाव माउंटिंग प्लेटफॉर्म बनाने के लिए अभी निकाले गए गैस का उपयोग करेंगे, और घटकों को पीसीबी सर्किट बोर्ड पर माउंट करने के लिए उच्च दबाव का उपयोग करेंगे।

सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन सक्शन नोजल
सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीनों के सक्शन नोजल आमतौर पर समर्पित सफाई उपकरणों, यानी पूरी तरह से स्वचालित सक्शन नोजल सफाई मशीनों द्वारा साफ किए जाते हैं। पूरी तरह से स्वचालित नोजल सफाई मशीन एक उच्च दबाव पानी की धुंध सफाई मोड को अपनाती है, जो सतह माउंट तकनीक (एसएमटी) मशीन के नोजल की सतह पर चिपकने वाली गंदगी को आसानी से हटा सकती है। पूरी प्रक्रिया में केवल शुद्ध पानी की आवश्यकता होती है और कोई अन्य रासायनिक विलायक नहीं होता है।

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