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Firmennachrichten über SK Hynix wird einen neuen Photoresist bei der Produktion von 1c DRAM verwenden

SK Hynix wird einen neuen Photoresist bei der Produktion von 1c DRAM verwenden

2024-12-30

Da die Miniaturisierung von DRAM weiter voranschreitet, konzentrieren sich Unternehmen wie SK Hynix und Samsung Electronics auf die Entwicklung und Anwendung neuer Materialien.

Laut TheElec plant SK Hynix die Verwendung des Metalloxid-Photoresists (MOR) der nächsten Generation von Inpria in der Produktion von DRAM der 6. Generation (1c-Prozess, etwa 10 nm), was das erste Mal ist, dass MOR im DRAM-Massenproduktionsprozess eingesetzt wird.

Der in Massenproduktion hergestellte 1c-DRAM von SK Hynix weist fünf Extreme-Ultraviolett-(EUV)-Schichten auf, von denen eine mit MOR gezeichnet wird, so die Quellen. "Nicht nur SK Hynix, sondern auch Samsung Electronics werden solche anorganischen PR-Materialien anstreben", fügte er hinzu.

Inpria ist eine Tochtergesellschaft des japanischen Chemieunternehmens JSR und ein führendes Unternehmen im Bereich der anorganischen Photoresist. MOR gilt als die nächste Generation der chemisch verstärkten Photoresist (CAR), die derzeit in der fortschrittlichen Chip-Lithographie verwendet werden.

Darüber hinaus arbeitet das Unternehmen seit 2022 mit SK Hynix an der MOR-Forschung. SK Hynix hat zuvor erklärt, dass die Verwendung von Sn (Basis)-Oxid-Photoresist dazu beitragen wird, die Leistung von DRAM der nächsten Generation zu verbessern und die Kosten zu senken.

Der TheElec-Bericht stellte auch fest, dass Samsung Electronics ebenfalls die Anwendung von MOR auf 1c-DRAM in Erwägung zieht, und derzeit wendet Samsung Electronics sechs bis sieben EUV-Schichten auf 1c-DRAM an, während Micron nur eine Schicht anwendet.

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