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会社ニュース SKハイニックスは1cDRAMの生産に新しい光電阻を使用します

SKハイニックスは1cDRAMの生産に新しい光電阻を使用します

2024-12-30

DRAMの微細化が進む中、SK HynixやSamsung Electronicsなどの企業は、新素材の開発と応用を重視しています。

TheElecによると、SK Hynixは、6世代（1cプロセス、約10nm）DRAMの製造にInpriaの次世代金属酸化物フォトレジスト（MOR）を使用する予定であり、MORがDRAMの量産プロセスに適用されるのはこれが初めてです。

SK Hynixの量産1c DRAMには5つの極端紫外線（EUV）層があり、そのうちの1つはMORを使用して描画されると情報筋は述べています。「SK Hynixだけでなく、Samsung Electronicsもこのような無機PR材料を追求するでしょう」と彼は付け加えました。

Inpriaは日本の化学会社JSRの子会社であり、無機フォトレジスト分野のリーダーです。MORは、現在高度なチップリソグラフィーで使用されている化学増幅フォトレジスト（CAR）の次世代と考えられています。

さらに、同社は2022年からSK HynixとMORの研究に取り組んでいます。SK Hynixは以前、Sn（ベース）酸化物フォトレジストの使用が次世代DRAMの性能向上とコスト削減に役立つと述べています。

TheElecのレポートはまた、Samsung Electronicsも1c DRAMへのMORの適用を検討しており、現在Samsung Electronicsは1c DRAMに6〜7層のEUV層を適用している一方、Micronは1層しか適用していないと指摘しています。

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