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PCBA清掃プロセスの安定性に影響する4つの要因が検討されました

2024-12-25
Latest company news about PCBA清掃プロセスの安定性に影響する4つの要因が検討されました

洗浄プロセスの理解が十分ではなかったのは PCBAの組立密度が低いからです流体残留物などの汚染物質が電気性能に及ぼす悪影響を検出するのは容易ではないPCBAの設計が小型化へと発展するにつれて,デバイスのサイズとデバイス間の距離が小さくなりました.小粒子の残留物によって引き起こされる短回路と電気化学的な移動が広く注目されています市場動向に適応し,製品の信頼性を向上させるために,SMTメーカーが増えるにつれて,清掃プロセスについて学ぶ旅を始めています.

浄化プロセスは,浄化剤の静的浄化力と浄化機器の動的浄化力を組み合わせて,汚染物質を最終的に除去するプロセスです.PCBA清掃はSMT (SMT) とプラグイン (THT) の2段階に分かれています洗浄によって,製品の加工中に表面汚染物質の蓄積を除去し,表面汚染のリスクを軽減し,製品の信頼性を低下させることができます.電子製品製造および半導体加工産業適切な洗浄剤と適切な洗浄機器を選ぶことは非常に重要です.

PCBA浄化プロセスの安定性に影響を与える要因は主に以下の通りである.
  • 清掃対象
  • 清掃設備
  • 清掃剤
  • プロセス制御
清掃対象

電気化学的な移動,腐食,短回路を 引き起こします製品の信頼性を大きく脅かすものしかし,大粒子の汚染,油の汚れ,電路板の表面の汗の汚れは除外されません.異なるPCBAの材料特性と表面条件も異なります.ゼストロン技術センターまた,多くの場合,顧客の製品は浸水できないため,浸水洗浄プロセスには適していません.繊細な金属から作られている部品もあります超音波で清掃できません さもないと泡が爆発すると 部品を粉々にしますpH 中性 清掃 溶液 で "優しく"処理 する 必要 が ある 成分 も あり ます通常,回路板の表面は非常に複雑な幾何構造があり,統合密度は非常に高い.デバイスと基板の間の距離が非常に小さい場合,離子化水の水滴は,小さなギャップに掘り込むことができません装置の下部にある汚染物質を除去できず,化学清掃剤が必要になります.

清掃剤

特殊なクリーニング剤を選ぶことは非常に重要です.ZESTRONデータベース水性,半水性,溶剤性製品が豊富に用意されており,様々な汚染物質に対応しています.材料 の 互い に 合致 する こと は しばしば 見過ごさ れ て い ます が,清掃 プロセス の 重要 な 部分 です例えば:電源モジュールのパッケージには,銅,ニッケル,アルミなどの様々な金属材料があります.不適切な清掃プロセスは,簡単にアルミチップや銅の表面の腐食や酸化につながる清掃剤と清掃対象の物質互換性は,清掃剤と清掃装置の間には,製品破片が生じる可能性があります.製造ラインで使用され,直接人体と接触する化学物質であるため,不適切な操作は人身傷害や経済的損失を引き起こす可能性があります.ゼストロン1989年以来,CFSの代替品として初めて開発されたグリーンで安全なクリーニング製品です.RoHS指令とWEEE指令ZESTRON 清潔剤は,オゾン層を破壊するODS成分を含んでおらず,VOCの含有量は国家基準を満たしています.

清掃設備

完全な清掃プロセスは,通常,清掃,洗浄,乾燥を含むこれらの3つのプロセス,清掃プロセスでは,清掃剤と汚染物質は互いに接触します.清掃剤は,清掃対象の表面から汚染物質を分離します.■ 洗浄と乾燥のプロセスは主に汚染物質をさらに除去するだけでなく,部品の表面にクリーニングエージェントの残留物が存在しないことを保証します.ゼストロン技術センター超音波クリーニング機器などのオフラインのバッチクリーニング機器から水中洗浄設備オンラインスプレー機器まで,顧客は様々な一般的なクリーニングメカニズムから選択することができます.ZESTRONは,実際の生産条件下であなたの製品をテストし,清掃アプリケーションを評価することができます洗濯機や洗浄剤を 顧客の要求に応じて

清掃プロセス制御

洗浄時間が長くなるにつれて,洗浄溶液に汚染物質が絶えず流入すると,洗浄効率に悪影響を及ぼします.何時に洗浄液を交換する必要がありますか?最後に液体交換はいつですか?環境/製品が変化するときに,クリーニングパラメータをどのように調整するか? これらの質問は,顧客のコストと出力に直接関係しています.清掃データ収集が答えを見つける鍵です,時間,動き,濃度,温度を含む.これらのうち,清掃溶液は,使用過程で多くの要因によって影響されます.例えば:液体の残留物,液体の蒸発電子回路の浄化過程では,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化過程で,電流の浄化濃度モニタリングは,清掃効果の安定性と直接関係しています..

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